フォトマスク・光学レンズ、プリズム等の基本・超音波洗浄工程
日本が、超音波洗浄業界が 最も活気のあった時代は、9~16槽式のフォトマスクの洗浄機、レンズの多槽式等の洗浄機が 多数製造販売されていた時代では ないだろうか。フロンー113(CFC-113)が、使用禁止になってから、技術開発も 促進され、当社のキャビティーション強化システムの登場などにより、変化した部分もあるが 基本的な洗浄の考え方は 変化していない。
フォトマスク、各種光学レンズ、プリズム、ガラス基板を中心に 基本的な洗浄工程の考え方を 図にしてみた。図の見方ですが、たとえば 光学レンズのピッチ除去洗浄から、工程を組む場合の最も普通の洗浄工程は、ピッチ除去溶剤洗浄⇒溶剤・リンス超音波洗浄⇒蒸気洗浄⇒弱アルカリ系洗浄剤超音波洗浄⇒同・超音波洗浄⇒市水・リンス・シャワー洗浄⇒市水・超音波洗浄⇒純水・超音波洗浄⇒同・リンス⇒同・リンス⇒同・リンス⇒IPA・水置換・超音波洗浄⇒同・リンス⇒同・リンス⇒IPA・蒸気洗浄(他の溶剤・蒸気洗浄)である。 途中を短縮したり。さらに追加して、槽を増やしたり。9~16槽式の 超音波洗浄装置が 編成される。参考にして頂きたい。ガラス洗浄は、金属洗浄と異なる。潜傷対策など、金属にない課題もある。また、反射波が生じないので、キャビティ―ションの定在波のコントロールが、最重要になる。(詳細は、後日)
(2011.07.02)